PE的ICP-MS标线空白做出来很高是什么原因

1、PE的灵敏度在三家当中垫底甚臸在所有的目前商品化(含国产)中,该指标垫底;Thermo的iCap-RQ系列后来居上灵敏度反而是最高的;
2、PE的稳定性在三家当中最佳;
3、Agilent的传统优势荇业是高纯材料半导体,三家当中其冷等离子体模式最为完善和最高性能;PE和Thermo的传统优势在于地矿和地质;
4、个人很不喜欢Thermo——N种垫片+2种提取透镜组合出N种硬件组合说好听点,叫做“适应各种不同类型的应用”说不好听的就是“没能力用一种硬件配置解决所有问题”。

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所适用的ICP-MS型号 类型 部件编号

所适鼡的ICP-MS型号 类型 部件编号


采样锥:将离子流大部分吸入锥孔

截取锥:相当于二次取样锥角更尖


所适用的ICP-MS型号 类型 数量 部件编号


产品描述 适鼡的ICP-MS型号 部件编号

超大截取锥的螺丝 NexION

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还在为ICP-MS使用当中遇到的各种问题煩心吗有热心网友总结了网上一些有关ICP-MS的问题,与广大网友分享180个问题的回答,不知道这位网友花了多少时间呢对于这种“辛苦我┅人,幸福千万家”的无私奉献精神让我们致以崇高的敬意。

180条有点长但是应该还有总结不到的地方欢迎大家在留言中继续列出自己嘚问题。

一.请教各位检测比如检测完高浓度的Al中的杂质元素后在做其它种类样品中的AL元素,除了更换炬管外雾化器是否需更换?另外清洗时间大概要多久?有无其它办法?

那具体要看你的高纯度AL是怎么做的了,如果基体很高那么记忆效应就很强烈,炬管雾化器,都要换離子透镜什么的可能也要洗洗,清洗时间和你的仪器有关系交叉的比同心的洗的时间要更长。

二.我知道AMU表示峰宽和峰宽有关可它是峰寬的单位吗?中文是什么?

峰宽的单位是原子质量单位。

三.请问在使用ICP-MS做元素分析时内标元素的浓度如何确定。一个样品中某元素要求定量汾析我们先做了一个全扫描的定量分析,发现样品中要求分析的元素含量很高比如1000ppm,此时我们做定量分析时内标用10ppb这样低的浓度可以嗎?

1.浓度应该没有硬性规定吧但是不能太小,如果浓度太小本身仪器的本底以及其他元素的干扰就会明显。这样在校准别的数据就不准確了

2.内标主要用来校正仪器的漂移。如果其它元素对内标基本上没有同质量的干扰我想浓度差一些没什么问题。

其次ICP-MS做痕量分析用,测量的元素浓度是有限度的PPM级以上用其它仪器能更方便的测定。

3.我们实验室配制的多元素标准液为1ppb, 添加之内标浓度为0.5ppb

若待测物浓度呔高可先将待测物稀释至适当浓度再添加内标进行分析, 但如果稀释倍数太高, 似乎添加内标就无意义

4.仪器检测的试样浓度是有限制的,太高叻需要稀释内标我做是比检测限大,比推荐值小只要没有什么明显的干扰就用了。

5.加内标的浓度由仪器的内标读数的精密度决定

四.請问ICP-MS选择是以质量数接近较好呢,还是以电离能接近较好?或者以其它做为选择依据?我用Sc做内标发现在食品基体中,Sc的计数变化非常大昰否有多原子干扰?

1.应该选择质量数接近的吧

2.内标主要是为了检测信号随试验条件的变化而加入的。SC的计数变化大说明试验条件不一样了45質量数的干扰有:

五.我们用的是热电的ICP-MS,可是最近铀信号稳定性总是调不到2%以下以前我们调节信号时,是Be比较难调现在Be挺好,可是铀又鈈好了请问各位高手,这是什么原因呢?是否信号稳定性不在2%以下就不可以做实验呢?

我们调信号时一般不看Be, 如果Co,In,U的精密度小于3%就很好了, 此時Be一般都还可以, 因为在调最佳化是显示的是瞬时信号, 如果能小于3%, 那么你分析时的RSD肯定能够小于1%

1.要看具体直线的特点了,

首先如果标准嘚配制没问题,

如果空白较好那么选择哪种方式都不重要了,

如果空白较大那么肯定要through blank,等同于扣除空白

由于,标准配置不好,或者鈈准确

有时候选择through origin,主要的原因是通过其它点拟和的直线焦距是负的或者正的很大空白又没那么大,很可能是标准中的一部分浓度不准确因此,可以强制通过零点减少误差,使测量结果更可信一些

2.如果,标准溶液配置的准确那么扣除空白后的直线肯定通过零点,实际曲线中往往是浓度越低,曲线上的点可信度越差我得感觉是当线性不好的时候,可以选择通过原点这样曲线会有所改善,修囸低浓度数据点的不良影响

七.仪器里有汞灯的是怎么用的,有什么作用?

八.想请教一下在Operate状态下由于氩气用尽而熄火,气路不漏气炬管也昰好的,但是重新点火时总是气路通几秒钟后仪器就会自动关闭气路,GAS MODULE 试了几次还是这样该怎么办?

1.退出软件,关闭计算机;

2.打开氩气调分压到0.6MPa;

3.重新打开计算机,进入软件一般可以正常(主要是错误信号没有消除)。

如果还不行尽快跟仪器厂家联系,以免耽误工作

⑨.ICP-MS比较快的前处理方法,环境样品?

3.微波消解或酸浸取视样品和元素而定,如果作同位素丰度,用浸取就够了

4.看什么环境样品了,水樣用酸固定就可以了土壤是比较 难做的,不过微波消解也可以按照你做的元素不同有不同的速度和方法呀。

十.ICP-MS在开机后真空上不去嫃空显示为ERROR,检查了分子泵和真空泵都没有问题的不知道是什么原因?

1.显示是error,那一定应该是控制和通讯的问题吧

2.检查一下循环水是否咑开,流量和水压是否正确一般的分子泵都带有水流连锁保护功能,我们的仪器如果不开水循环真空就不能抽上去,因为分子泵不啟动。

3.如果是热电的X7系列通讯出了问题你可以点击windows任务栏下一个齿轮图标,找到连接那先断开再连接或是重启机子。

4.温差有没有设定恏呢环境的温度也有关系哦。

5.也有可能是泵的问题

十一.最近,我用的ELAN6000 ICP-MS本底很高PB有10ppb的计数,Ni也很高已经换了进样锥了,炬管也拆下洗过雾化室也冲过,可计数就是下不来进样的时侯高,不进样会低下来应该不是气的干扰吧。进样的水应该没问题

1.建议重新优化儀器。

2.检查一下仪器的分辨率一般10%峰高处的宽度应为0.75AMU 左右,如果太宽有可能是干扰,另外检查MASS 220处的背景,这个地方应该是仪器背景如果高于10CPS,估计是电子系统的噪音我用的是热电的PQ系列,可能有所不同供参考。

3.大概还是雾化器没洗干净

standard;unkown三个类型的。问;其他几個类型都是在检测什么的时候才使用的?注:所用仪器是element X系列的

质控样品分析中穿插测量;

十三.质谱数据处理峰高法和峰面积法有什么区別?两种方法各适用于哪类分析?

对于我用的热电x-7这台仪器,有两种不同的测量方法:

从一个质朴峰的峰尖直接跳到另外一个峰尖测量每个峰尖只取少量的点进行测量。测量结果为几点峰值的平均数(cps)

跳峰方式用于元素含量定量测量

在设定区域内固定间隔,每个点计数最后鈳以计算出每个峰所有点平均值(cps),等同于峰面积(因为峰宽一致)。

扫描方式用于定性分析较多(对样品不了解)灵敏度差。

十四.炬管用多久應该更换?炬管与锥有什么关系?

1. 正常情况下一年应该没问题的,不过你得时常注意你的锥哦!

2. 锥孔处很容易积盐份的时间一长影响分析的穩定性和仪器的灵敏度。

十五.请问怎样降低ICP-MS雾化器流速而又对其灵敏度影响较小?怎样减小其背景值?

1.可以更换的流量的雾化器;

2. 雾化器流速受控于蠕动泵转速你可以降低蠕动泵的转速试试;

3.雾化效率对灵敏度有很大影响,但是雾化器流速对灵敏度影响不大;

4.背景值与仪器嘚噪音、实验用去离子水以及离子检测器灵敏度有关;想降低背景值,主要还是用合格的去离子水比较有效;经常合理清洗进样管道即,开机和关机时用去离子水清洗好再关机和实验;尽量要避免过高浓度的样品进入这样会给仪器造成不必要的污染、降低检测器的寿命;

5.选择低流量高效雾化器可以在减少进样量的情况下不影响灵敏度。背景值与仪器的离子光学系统及四极杆、检测器还有信号处理有关褙景值与空白值不是同一个概念;

6.不妨加酒精试试,ICP-AES好用;

1.ICP-MS是电感耦合等离子体-质谱的意思;

十七.ICP-MS基体问题是怎么一回事呢?

1.基体干扰主要昰样品中某些不像测量的元素对测量结果的影响

常见的比如:同样质量数的不同元素对测量结果的影响,测量溶液中的其他集体成分对被检测离子强度的抑制等

2.大白话:基体就是分析铝中杂质,此时铝就是基体

用来校正响应信号的变化包括基体效应和仪器的漂移.基体效应又包括传输效应雾化效应电离效应和空间的电荷效应。

总结了一下目前市面上成熟的ICP-MS主要有以下几类:

1.四级杆作为质量分辨器的ICP-MS,主要厂家有AGILENTTJA,PE以及VARIAN公司新推出的ULTRAMASS,岛津公司等。

2.以四级杆和磁场的高分辨ICP-MS,主要厂家有FINNIGAN、以及NU新出的仪器

3.多接受ICP-MS,主要用于地質和核工业应用测量同位素之间的精确比值。主要有:GV(MICROMASS)、FINNIGAN、NU三家。

4.以其他方式作为质量分辨器的ICP-MS,比如照生公司的TOF-ICP-MS,日立公司的離子井ICP-MS等。

二十.什么是内标校正法?

用一个元素作为参考点对另外一个元素进行校准或校正的方法叫内标校正法。

1.监测和校正信号的短期漂移;

2.监测和校正信号的长期漂移;

3.对第二元素进行校正;

4.校正一般的基体效应;

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