本书适合于从事材料研究的科研技术人员、相关專业的大专院校师生阅读和参考,同时也可作为研究生教材使用。

第一节 嫃空的基本知识

第二章 薄膜的主要材料是什么制备的化学方法

第五节 阳极反应沉积法

第三章 薄膜的主要材料是什么制备的物理方法

第三节 離子束和离子助

第四节 处延膜沉积技术

第四章 薄膜的主要材料是什么的形成与生长

3. “再生”必须彻底；

4. 加热“再生”温度 >200 °C 烘烤除去吸附的气体

6. 制冷机式低温泵运作成本低 较常采用。

4. 为什么薄膜的主要材料是什么的主要PVD制备技术要在真空中完成

真涳的特点是a 气体分子的平均自由程大

b 单位面积上分子与固体表面碰撞的频率小

d 剩余气体对沉积膜的掺杂

想要得到高纯度的薄膜的主要材料昰什么，就必须尽量在较高真空度的环境下或是在不会与薄膜的主要材料是什么材料产生反应的氩气等

薄膜的主要材料是什么要求密致，纯度高针孔小，然后真空可以提高沉积速率降低对薄膜的主要材料是什么的污染

5. 哪些是有油真空泵，哪些是无油真空泵无油泵有哪些主要点？

机械泵和扩散泵是有油泵涡轮分子泵，罗兹泵离子泵，钛升华泵

6. 叙述热偶规、电离规测量真空度的原理和使用必须的注意事项

7. 什麽是CVD和PVD薄膜的主要材料是什么制备技术？

8. CVD过程自由能与反应平衡常数的过程判据是什么

用什么类型的CVD装置？

10. CVD薄膜的主要材料昰什么沉积的必要条件是什么

12. 什么是化学镀？它与化学沉积镀膜的区别有何特点？

13. 电镀与化学镀有何区别有那些主要应用？

14. Sol-Gel成膜技術的特点和主要工艺过程是什么

15. 说出四种以上薄膜的主要材料是什么的化学制备方法和四种以上物理制备方法？

16. 什么是饱和蒸气压与蒸发温度的关系怎样？

17. 温度变化对蒸发速率有何影响

18. 蒸发时如何控制合金薄膜的主要材料是什么的组分？

19. 膜厚的主要监控方法有哪些

20. 什麽是辉光放电？它有哪些主要应用领域

21. 溅射镀膜与真空镀膜相比，有何特点

22. 溅射率的大小与那些因素有关？以Ar为溅射源常温下能獲得

较高溅射率的合适的溅射能量、溅射角度在什么范围？

23. 什麽是直流溅射什麽是射频溅射？比较它们在原理、结构与使