电路上的L和H问题 为什么当IR-H为高电频时,IR-l 还输出高电平 这是什么原因

reduction,SCR)技术是一种在富氧条件下有效脱除NO_x的方法由于H_2-SCR具有低温活性好、还原产物绿色环保等优点,因此H_2-SCR近年来受到越来越多的关注。本文应用密度泛函理论研究了H_2选择催化还原NO茬Ni(110)和Ir/Ni(110)表面的反应机理以及可能产物N_2、N_2O、NH_3和H_2O的生成机理计算结果表明,NO在Ni(110)和Ir/Ni(110)表面容易发生解离,但表面吸附的H原子会对其解离稍有抑制作用。茬Ni(110)表面上,NH_3是表面上的主要产物,N_2和N_2O由于有较高的反应能垒而难以生成而在Ir/Ni(110)表面上,N_2成为主要的生成产物,生成能垒依次为N_2N_2ONH_3,且N_2O只需克服较小的解離能垒生成N_2。在两个表面上H_2可以有效地消除表面的O原子生成H_2O脱附,从而抑制催化剂表面氧中毒可以看到Ni(110)和Ir/Ni(110)表面具有很好的NO解离活性,而Ir Ni合金催化剂比纯Ni催化剂具有更好的N_2的选择性,有望做为NO消除的候选催化剂。

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